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真空紫外高级氧化技术去除水中微量有机污染物研究

文献类型:学位论文

作者温 栋
答辩日期2020-12
文献子类博士
授予单位中国科学院大学;中国科学院生态环境研究中心
授予地点北京
导师强志民
关键词真空紫外,高级氧化技术,水处理,微量有机污染物,降解 vacuum Ultraviolet, Advanced Oxidation Process, Water Treatment, Micro-organic Pollutant, Degradation
学位名称工学博士
学位专业环境工程
其他题名Micro-organic pollutant removal from water by vacuum ultraviolet-based advanced oxidation processe
英文摘要

      在过去几十年中,环境中频繁检出的微量有机污染物(micro-organic pollutants,MOPs)对水生态系统安全构成的严重威胁受到人们的广泛关注。一 般而言,最常见的 MOPs 主要包括药物和个人护理品、内分泌干扰物、农药、多 氯联苯、多环芳烃、全氟化合物、表面活性剂以及微囊藻毒素等。研究发现,由 于绝大多数的 MOPs 具有较好水溶性和生化稳定性,因此传统的水处理技术很难 对其进行有效去除。作为一类新型水处理技术,基于真空紫外线(vacuum ultraviolet,VUV)的高级氧化技术(advanced oxidation processes,AOPs) (VUV-AOPs)具有反应时间短、污染物去除和矿化效率高、运行维护简单以及 生成副产物少等优点。目前,国内外关于 VUV-AOPs 的研究大部分尚停留在实 验室小试阶段,而其在中试甚至全尺寸规模应用的报道还较少。本文结合实验室 小试和现场中试研究,重点考察了代表性 VUV-AOPs 对不同水体中多种典型 MOPs 的降解特性,主要取得以下结论:

      VUV-AOPs 去除水中 MOPs 的实验室小试装置采用细管流 VUV/UV 光反应 系统。以超纯水为反应基质,对磺胺二甲基嘧啶(sulfamethazine,SMN)在 VUV/UV/芬顿(VUV/UV photo-Fenton,VPF)技术中的降解动力学进行了研究。 结果表明,与传统 UV/芬顿技术相比,VPF 技术能够显著强化 SMN 的降解和矿 化,这是因为 VUV 能够光解 H2O 和加速 Fe 3+ /Fe 2+氧化还原循环从而生成更多的 活性氧物种(reactive oxygen species,ROSs)。羟基自由基(HO●)和氢过氧自 由基(HO2●)是 VPF 技术降解 SMN 最关键的 ROSs。VPF 技术降解 SMN 的最 优 pH 和 H2O2浓度分别是 4.0 和 0.29 mM。SMN 在 VPF 技术中的降解速率常数 (k)随着 Fe 3+浓度的增大(1.0 µM‒0.5 mM)而增大。无机阴离子(NO3 ‒、HCO3 ‒ 和 Cl‒,每种 0‒5 mM)和腐殖酸(humic acid,HA,0‒25 mgC L ‒1)都会通过竞 争光子和淬灭 ROSs,进而在一定程度上抑制 SMN 的降解。SMN 的不同初始浓 度会通过改变直接光解和间接氧化对其降解的贡献占比,从而产生不同的降解机 理。当 SMN 浓度较低时(1.8 µM),SMN 降解主要由间接氧化贡献;而当 SMN 浓度较高时(90 µM),直接光解和间接氧化对 SMN 降解贡献都很重要。

      以经过基于超滤(ultrafiltration,UF)膜不同组合技术预处理的出水为反应 基质,对乐果(dimethoate,DMT)在 VUV/UV/H2O2 和 VUV/UV/chlorine 技术 下的降解动力学进行了研究。结果表明,基于 UF 膜的前处理技术对原水的水质 参数影响较为显著。在 H2O2体系(即 UV/H2O2和 VUV/UV/H2O2技术)下,DMT 的 k  在 不 同 水 体 中 的 大 小 排 序 与 其 在 chlorine 体 系 ( 即 UV/chlorine 和 VUV/UV/chlorine 技术)下不同,这主要是由 Fe 2+和 Fe 3+在两种体系所起的作用 不同导致。相较于 UV 辐照体系,VUV 光解 H2O 和氧化剂以及 VUV 促进 Fe 3+ /Fe 2+ 氧 化 还 原 循 环 生 成 更 多 活 性 物 种 可 以 显 著 强 化 DMT 的 降 解 。 同 时 , VUV/UV/H2O2和 VUV/UV/chlorine 技术中氧化剂的加快消耗分别通过 VUV 促进 Fe 3+ /Fe 2+氧化还原循环和 VUV 直接光解氧化剂完成。chlorine 体系能更快降解 DMT 和氧化水体中的还原性物质,而 H2O2体系则更有利于水体中的 TOC 去除。

       以亚甲基蓝(methylene blue,MB)和 SMN 分别作为模型和验证污染物,研 究了内径(d)和流量(Q)对中试 VUV/UV 光反应器(pilot VUV/UV photoreactor, PVPR)性能的影响。结果表明,增大 Q 和改变(增大或减小)d 都能显著提升 PVPR 降解性能(42.8%–98.9%)。不同浓度氧化剂(H2O2、chlorine 和 PS)体 系中,MB 的 k随 d 的变化规律不同,这是因为较小浓度(14.7 μM)氧化剂体 系中的 k主要受 HO●自结合效率的影响,而较大浓度(147 μM)氧化剂体系中 的 k则主要受氧化剂对 UV 光子利用效率的影响。雷诺数对不同 VUV-AOPs 降 解性能的影响不同,且其对低浓度氧化剂体系降解性能影响大于高浓度氧化剂体 系。水力流态的改变或氧化剂的投加都可显著提升 PVPR 的降解性能和降低处理 成本,从而使其更富有应用前景。MB 和 SMN 降解动力学以及 H2O2生成动力学 结果不仅验证“HO●再结合抑制 VUV 技术效率”假说的正确性,而且还给 PVPR 性能优化选择方案提供了参考。

       以江苏省常州市某河水为研究对象,进行了 VUV/UV 和活性炭(activated carbon,AC)联用技术净化微污染水的中试研究。结果发现,管式光反应器对 MB 和十二烷基苯磺酸钠的去除性能优于箱式光反应器。AC、VUV/UV-AC 和 O3-AC 技术对 3 种有机物综合指标和 4 种 MOPs 的去除效能不同。对于同一种处 理技术而言,各去除指标的去除率大小排序为:UV254 > 化学需氧量(chemical oxygen demand,COD) > 总有机碳(total organic carbon,TOC)和 DMT > 双 酚 A(bisphenol A,BPA) > SMN > 全氟辛酸(perfluorooctanic acid,PFOA) (AC 技术除外)。对于同一个去除指标而言(AC 技术最差),各技术降解性能高低排序为:VUV/UV-AC ≈ O3-AC(UV254、COD 和 TOC)和 VUV/UV-AC > (或<) O3-AC(SMN 和 PFOA 或 BPA 和 DMT)。AC 技术对各指标的去除机 理随运行时间的增长而变化,前期(0‒36 d)以 AC 的吸附作用为主,而后期(36‒71 d)则依靠 AC 的吸附和微生物的降解共同作用。结合去除效能和单位电能消耗 (electric energy per order,EEO)结果可知,VUV/UV-AC 技术的性价比高于 O3-AC 技术且前者对不同水质和去除指标(有机物综合指标或 MOPs)的适应性也更强。

       本文研究结果加深了对目标污染物降解机理的认识,明晰了技术性能的主要 影响因素,展示了处理技术的运用潜能,为开发新型 VUV-AOPs 作为水处理技 术储备奠定了良好基础。VUV 光反应器构型优化和性能验证研究对研发其他类 型的高效光反应器或净水设备应用于实际具有非常重要的参考意义。同时,微污 染水体净化的中试研究为 VUV-AOPs 及其组合或联用技术的未来实际工程应用 提供了现场基础数据和一定指导作用,有助于其在水处理领域中的推广和运用。

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源URL[https://ir.rcees.ac.cn/handle/311016/47092]  
专题生态环境研究中心_环境水质学国家重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
温 栋. 真空紫外高级氧化技术去除水中微量有机污染物研究[D]. 北京. 中国科学院大学;中国科学院生态环境研究中心. 2020.

入库方式: OAI收割

来源:生态环境研究中心

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