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原子层沉积TiO2:Al2O3薄膜电阻率调控机制研究

文献类型:学位论文

作者李继超
答辩日期2023
文献子类硕士
授予单位中国科学院大学
授予地点北京
导师赵卫
关键词原子层沉积 微通道板 导电层 二氧化钛 氧化铝
页码72
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/96573]  
专题西安光学精密机械研究所_研究生部
推荐引用方式
GB/T 7714
李继超. 原子层沉积TiO2:Al2O3薄膜电阻率调控机制研究[D]. 北京. 中国科学院大学. 2023.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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