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一种在硅片表面生长硫化镉纳米线阵列的方法

文献类型:专利

作者刘静; 伊福廷; 王波; 张天冲; 梁小筱; 颜铭铭; 徐源泽
发表日期2020
专利号CN111217320
著作权人中国科学院高能物理研究所
文献子类发明专利
英文摘要本发明公开了一种在硅片表面生长硫化镉纳米线阵列的方法,其步骤包括:1)在硅片表面制备硅金字塔结构,然后在所述硅金字塔表面上制备硫化镉种子层;其中,硅金字塔结构用于增加硅表面与硫化镉种子层的粘附性;2)用水热法在硫化镉种子层上生长硫化镉纳米线,得到硫化镉纳米线阵列;3)用去离子水对步骤2)得到的硫化镉纳米线阵列进行漂洗、晾干。本发明首次通过引入金字塔结构,结合水热生长法,在硅片表面实现硫化镉纳米线的生长;金字塔的引入,增加了硅表面与硫化镉种子层的粘附性,相对于在硅片表面引入硅柱结构来说,方法简单,成本低,易于操作。
公开日期2020
源URL[http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/298281]  
专题高能物理研究所_多学科研究中心
中国科学院高能物理研究所
作者单位中国科学院高能物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
刘静,伊福廷,王波,等. 一种在硅片表面生长硫化镉纳米线阵列的方法. CN111217320. 2020-01-01.

入库方式: OAI收割

来源:高能物理研究所

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