一种在硅片表面生长硫化镉纳米线阵列的方法
文献类型:专利
作者 | 刘静![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2020 |
专利号 | CN111217320 |
著作权人 | 中国科学院高能物理研究所 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 本发明公开了一种在硅片表面生长硫化镉纳米线阵列的方法,其步骤包括:1)在硅片表面制备硅金字塔结构,然后在所述硅金字塔表面上制备硫化镉种子层;其中,硅金字塔结构用于增加硅表面与硫化镉种子层的粘附性;2)用水热法在硫化镉种子层上生长硫化镉纳米线,得到硫化镉纳米线阵列;3)用去离子水对步骤2)得到的硫化镉纳米线阵列进行漂洗、晾干。本发明首次通过引入金字塔结构,结合水热生长法,在硅片表面实现硫化镉纳米线的生长;金字塔的引入,增加了硅表面与硫化镉种子层的粘附性,相对于在硅片表面引入硅柱结构来说,方法简单,成本低,易于操作。 |
公开日期 | 2020 |
源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/298281] ![]() |
专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 中国科学院高能物理研究所 |
作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘静,伊福廷,王波,等. 一种在硅片表面生长硫化镉纳米线阵列的方法. CN111217320. 2020-01-01. |
入库方式: OAI收割
来源:高能物理研究所
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