一种用于束流均匀化的新型磁铁
文献类型：专利
| 作者 | 谷胜栋 ; 刘渭滨; 邱静
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| 发表日期 | 2017 |
| 专利号 | CN206674289U |
| 著作权人 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 文献子类 | 实用新型 |
| 英文摘要 | 本实用新型公布了一种用于束流均匀化的新型磁铁，其特征在于，包括两个C型二极铁(1)，一个底座(5)和两个磁场屏蔽块(4)；其中，两C型二极铁(1)磁场方向相反的安装在该底座上，且两C型二极铁(1)之间的间距在该底座(5)上可调，两个磁场屏蔽块(4)设置在两个C型二极铁(1)之间，两个磁场屏蔽块(4)之间的间隙与两C型二极铁(1)之间的磁场间隙对应一致。本实用新型可以灵活调整磁铁磁场来适应束流参数，减少因为磁场大小不当造成的粒子丢失，更好地实现束流密度均匀化。 |
| 公开日期 | 2017 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/298026]  |
| 专题 | 高能物理研究所_加速器中心 |
| 作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 谷胜栋,刘渭滨,邱静. 一种用于束流均匀化的新型磁铁. CN206674289U. 2017-01-01. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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