一种铜腔基底的离心滚抛机械预抛光方法
文献类型：专利
| 作者 | 杨馥羽; 张沛 ; 李中泉; 戴劲
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| 发表日期 | 2021 |
| 专利号 | CN112238392 |
| 著作权人 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 英文摘要 | 本发明公开了一种铜腔基底的离心滚抛机械预抛光方法，其步骤包括：1)选用刚玉斜三角作为磨料，将其与稀释的研磨液混合后倒入铜腔内，采用离心滚抛方法对铜腔基底进行第一次滚抛40～50小时；2)选用树脂圆锥作为磨料，将其与稀释的研磨液混合后倒入铜腔内，对铜腔基底进行第二次滚抛25～30小时；3)选用子弹头型树脂作为磨料，将其与稀释的研磨液混合后倒入铜腔内，对铜腔基底进行第三次滚抛25～30小时；4)选用玉米芯作为磨料，将其与金属抛光膏混合后倒入铜腔内，对铜腔基底进行第四次滚抛；每次所选磨料体积占铜腔总容量的占比为38～42％，金属抛光膏用量为金属抛光膏体积占玉米芯体积的1％。 |
| 公开日期 | 2021 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/298215]  |
| 专题 | 高能物理研究所_加速器中心 高能同步辐射光源 |
| 作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 杨馥羽,张沛,李中泉,等. 一种铜腔基底的离心滚抛机械预抛光方法. CN112238392. 2021-01-01. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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