一种超导腔中温退火方法
文献类型:专利
作者 | 贺斐思![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2020 |
专利号 | CN111800933 |
著作权人 | 中国科学院高能物理研究所 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 本发明公开了一种超导腔中温退火方法,本方法为:1)对超导腔的内表面进行电化学抛光及清洗;2)如果超导腔为已除氢的超导腔,则进行步骤3);否则对超导腔进行高温退火,然后进行步骤3);3)将超导腔置于真空炉中,抽真空并加热至中温区,保温一段时间进行中温退火。本发明相比传统超导腔处理工艺能够进一步降低超导腔的表面电阻,从而减小超导腔的功耗,并且能够简化工艺流程。 |
公开日期 | 2020 |
源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/298236] ![]() |
专题 | 高能物理研究所_加速器中心 高能物理研究所_管理与技术支持 |
作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 贺斐思,潘卫民,沙鹏,等. 一种超导腔中温退火方法. CN111800933. 2020-01-01. |
入库方式: OAI收割
来源:高能物理研究所
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