一种高分辨率闪烁体薄膜、制备方法和制备设备及应用
文献类型：专利
| 作者 | 谷战军 ; 吴晓辰; 董兴华
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| 发表日期 | 2021 |
| 专利号 | CN113845909 |
| 著作权人 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 英文摘要 | 本发明涉及一种高分辨率闪烁体薄膜及其制备方法和制备设备，属于高分辨X射线成像领域，解决现有闪烁体成膜技术中闪烁体薄膜不均匀、辐射发光强度低等缺陷的技术问题。所述高分辨率闪烁体薄膜包括保护层和闪烁体层。本发明提供的技术方案通过改善闪烁体薄膜的质地均匀程度，降低闪烁体薄膜厚度，增加闪烁体薄膜的透明性，以提升闪烁体薄膜的分辨率。 |
| 公开日期 | 2021 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/298087]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 谷战军,吴晓辰,董兴华. 一种高分辨率闪烁体薄膜、制备方法和制备设备及应用. CN113845909. 2021-01-01. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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