一种纳米分辨X射线全场显微成像的方法及装置
文献类型:专利
作者 | 张凯![]() ![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2021 |
专利号 | CN112577975 |
著作权人 | 中国科学院高能物理研究所 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 本发明公开了一种纳米分辨X射线全场显微成像的方法及装置。本装置包括一X射线光源聚焦镜,一波带片;其特征在于,所述X射线光源聚焦镜为一锥形毛细管聚焦镜;所述锥形毛细管聚焦镜的较大开口端作为入射端、较小开口端作为出射端;根据所述波带片的数值孔径确定锥形毛细管聚焦镜的锥角θ 4 ;其中,θ 4 =θ 3 ‑ω 1 ; 波带片的数值孔 λ代表X射线的波长,△R n 是波带片的最外环宽度,H为锥形毛细管聚焦镜中心点的内径高度,r为锥形毛细管聚焦镜中点距离X射线光源的距离。 |
公开日期 | 2021 |
源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/298198] ![]() |
专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张凯,袁清习,王山峰,等. 一种纳米分辨X射线全场显微成像的方法及装置. CN112577975. 2021-01-01. |
入库方式: OAI收割
来源:高能物理研究所
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