光栅及其制备方法
文献类型：专利
| 作者 | 王雨婷; 伊福廷 ; 王波; 周悦; 张天冲; 刘静
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| 发表日期 | 2018 |
| 专利号 | CN108469644 |
| 著作权人 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 英文摘要 | 本发明提供了一种光栅及其制备方法，其中，该方法包括：对第一衬底进行第一处理，得到带有预定结构的第一金制图形，进而得到中间掩膜板；在第二衬底上制备纳米柱阵列，并采用该中间掩膜板对所述纳米柱阵列进行第二处理，得到带有预定结构的第二金制图形，进而得到最终掩膜板；以及采用所述最终掩膜板对PMMA片进行第三处理，得到正弦型位相光栅。本发明的制备方法简单，且能够制备得到表面形貌较为复杂的光栅。 |
| 公开日期 | 2018 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/298463]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王雨婷,伊福廷,王波,等. 光栅及其制备方法. CN108469644. 2018-01-01. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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