一种在金刚石压砧上制备金属电极的方法
文献类型：专利
| 作者 | 刘静 ; 伊福廷; 李延春; 张天冲; 王波; 张新帅; 孙钢杰; 王雨婷
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| 发表日期 | 2016 |
| 专利号 | CN105261555 |
| 著作权人 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 英文摘要 | 本发明公开了一种在金刚石压砧上制备金属电极的方法，该方法是在直径为300微米的圆形金刚石压砧面上制备出10微米宽的电极结构，该方法包括：制备带有电极图形结构的镂空金属掩膜版；将该镂空金属掩膜版与金刚石压砧面对准和固定，使该镂空金属掩膜覆盖在金刚石压砧面的表面，然后在具有镂空金属掩膜版的金刚石压砧面的表面溅射一层金属电极；摘除镂空金属掩膜版。本发明利用紫外光刻技术、套刻及离子束溅射镀膜技术完成在金刚石压砧上制备金属电极，能够在金刚石直径为300微米的圆形砧面上制备10微米宽的电极结构，该方法操作简单，避开了传统工艺中在金刚石砧面上的光刻过程，过程简单，易于操作。 |
| 公开日期 | 2016 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/298676]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘静,伊福廷,李延春,等. 一种在金刚石压砧上制备金属电极的方法. CN105261555. 2016-01-01. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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