一种应用于高分辨中子成像探测器的GOS:Tb透明陶瓷闪烁屏及其制备方法
文献类型:专利
作者 | 李江; 周健荣![]() ![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2021 |
专利号 | CN113340925 |
著作权人 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 ; 散裂中子源科学中心 ; 中国科学院高能物理研究所 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 一种应用于高分辨中子成像探测器的GOS:Tb透明陶瓷闪烁屏及其制备方法。该GOS:Tb透明陶瓷闪烁屏包括:基底、反射层薄膜以及厚度为微米级别的GOS:Tb透明陶瓷。本申请通过将GOS:Tb透明陶瓷封装在镀有反射层薄膜的刚性基底上,制得所述GOS:Tb透明陶瓷闪烁屏。该GOS:Tb透明陶瓷闪烁屏具有厚度薄、透明度高、形成闪烁体光斑小的特点,将其应用在中子成像探测器时,能在保证高分辨的前提下有效提高光产额,进而提高中子成像的空间分辨率。 |
公开日期 | 2021 |
源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/298131] ![]() |
专题 | 高能物理研究所_东莞分部 |
作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李江,周健荣,孙志嘉,等. 一种应用于高分辨中子成像探测器的GOS:Tb透明陶瓷闪烁屏及其制备方法. CN113340925. 2021-01-01. |
入库方式: OAI收割
来源:高能物理研究所
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