真空管道用的磁场移动式镀膜设备及方法
文献类型：专利
| 作者 | 贺华艳 ; 刘磊; 王鹏程; 黄涛
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| 发表日期 | 2021 |
| 专利号 | CN113174581 |
| 著作权人 | 散裂中子源科学中心 ; 中国科学院高能物理研究所 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 英文摘要 | 本发明公开一种真空管道用的磁场移动式镀膜设备及方法，其设备包括机架、升降平台机构和磁铁组件，磁铁组件中部设有第一通孔，机架上固定安装有至少一个位于第一通孔内的真空管道，磁铁组件安装于升降平台机构上，升降平台机构安装于机架上；升降平台机构带动磁铁组件进行升降运动。其方法是将内置有靶源组件的真空管道固定安装于机架上，真空管道分段形成多个镀膜工位，磁铁组件在真空管道外周进行升降运动，按照由上至下或由下至上的方式逐个停留在对应的镀膜工位上，为真空管道的镀膜提供磁场作用。本发明可在不需要重新拆装或增设磁铁组件的情况下，实现不同长度或多根真空管道同时进行镀膜处理，且镀膜效果均匀，工作效率高。 |
| 公开日期 | 2021 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/298148]  |
| 专题 | 高能物理研究所_东莞分部 |
| 作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 贺华艳,刘磊,王鹏程,等. 真空管道用的磁场移动式镀膜设备及方法. CN113174581. 2021-01-01. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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