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β-Ga_2O_3单晶制备工艺的研究进展

文献类型:期刊论文

作者陈博利; 杨依帆; 冷国琴; 黄朝晖; 孙峙; 陶天一
刊名功能材料
出版日期2021-01-30
卷号52期号:01页码:1070-1077
关键词Β-ga_2o_3 宽禁带半导体 单晶生长 制备工艺
ISSN号1001-9731
英文摘要

β型氧化镓(β-Ga_2O_3)具有宽禁带、高击穿强度和低制造成本等优点,是制备第三代半导体的优质备选材料。制备β-Ga_2O_3材料的方法有直拉法、导模法、浮区法、布里奇曼法等。由于该材料在高温下易挥发,易产生较多杂质气体、晶体形状难以控制、单晶中产生较多缺陷等问题。对目前β-Ga_2O_3制备方法进行综述,对多种制备方法的工艺、原理以及相关应用进行介绍,并对这些方法及工艺的特点进行对比,分析产品低质量的主要原因并提出解决建议,为未来优化β-Ga_2O_3材料制备工艺的研究提供参考。

项目编号国家科技部重点专项资助项目(2017YFB0403300/2017YFB0403305) ; 中国科学院过程工程研究所南京绿色制造产业创新研究院的重点研发资助项目(E0010715)
语种中文
源URL[http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/57242]  
作者单位1.中国科学院过程工程研究所
2.中国地质大学(北京)材料科学与工程学院
推荐引用方式
GB/T 7714
陈博利,杨依帆,冷国琴,等. β-Ga_2O_3单晶制备工艺的研究进展[J]. 功能材料,2021,52(01):1070-1077.
APA 陈博利,杨依帆,冷国琴,黄朝晖,孙峙,&陶天一.(2021).β-Ga_2O_3单晶制备工艺的研究进展.功能材料,52(01),1070-1077.
MLA 陈博利,et al."β-Ga_2O_3单晶制备工艺的研究进展".功能材料 52.01(2021):1070-1077.

入库方式: OAI收割

来源:过程工程研究所

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