Ni掺杂W_(18)O_(49)/ITO-PET电致变色薄膜性能研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 朱多银; 金志浩; 岳君容; 张建岭; 崔彦斌 |
| 刊名 | 光电子技术
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| 出版日期 | 2021-12-30 |
| 卷号 | 41期号:04页码:289-294+314 |
| 关键词 | 镍掺杂 氧化钨 电致变色薄膜 溶剂热法 柔性基底 |
| ISSN号 | 1005-488X |
| DOI | 10.19453/j.cnki.1005-488x.2021.04.008 |
| 英文摘要 | 以WCl_6和NiCl_2·6H_2O为钨源和镍源、PVP为表面活性剂、无水乙醇为溶剂,采用溶剂热法制备得到非化学计量比的W_(18)O_(49)和Ni掺杂W_(18)O_(49)纳米线(Ni-W_(18)O_(49)),并利用雾化沉积法将W_(18)O_(49)和Ni-W_(18)O_(49)纳米线喷涂在柔性ITO-PET透明导电基底得到W_(18)O_(49)/ITO-PET和NiW_(18)O_(49)/ITO-PET电致变色薄膜。测试结果表明,Ni掺杂使W_(18)O_(49)/ITO-PET电致变色薄膜着色/褪色响应时间由16.5 s/8.2 s减小为10 s/5.8 s,着色效率由56 cm~2·C~(-1)增至74 cm~2·C~(-1)。Ni-W_(18)O_(49)/ITO-PET电致变色薄膜经1 500次充放电后容量保持率仍为70%。Ni掺杂W_(18)O_(49)使W~(5+)和氧空位含量增加,降低电荷转移阻力,从而改善电致变色性能。 |
| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/57243]  |
| 作者单位 | 1.沈阳化工大学机械与动力工程学院 2.中国科学院过程工程研究所多相复杂系统国家重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱多银,金志浩,岳君容,等. Ni掺杂W_(18)O_(49)/ITO-PET电致变色薄膜性能研究[J]. 光电子技术,2021,41(04):289-294+314. |
| APA | 朱多银,金志浩,岳君容,张建岭,&崔彦斌.(2021).Ni掺杂W_(18)O_(49)/ITO-PET电致变色薄膜性能研究.光电子技术,41(04),289-294+314. |
| MLA | 朱多银,et al."Ni掺杂W_(18)O_(49)/ITO-PET电致变色薄膜性能研究".光电子技术 41.04(2021):289-294+314. |
入库方式： OAI收割
来源：过程工程研究所
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