氧化钆掺杂纳米氧化铈薄膜的制备与烧结性能研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 梁金 ; 朱庆山 |
| 刊名 | 功能材料
 |
| 出版日期 | 2008 |
| 期号 | 02页码:275-278 |
| 关键词 | GDC 浸渍-提拉法 薄膜 场发射扫描电镜 |
| 中文摘要 | 以Ce(NO3)3.6H2O和Gd2O3为前驱体,六亚甲基四胺为沉淀剂,通过均相沉淀反应直接合成能长时间稳定悬浮的氧化钆掺杂纳米氧化铈(Ce0.8Gd0.2O1.9,GDC)母液。对合成的前驱粉体进行了XRD、BET、动态光散射等研究,XRD结果表明粉体具有氧化铈的立方萤石结构特征峰,BET结果表明粉体比表面积为68.3m2/g,当量粒径为约12nm,非等温烧结实验结果表明粉体具有良好的烧结活性。用浸渍-提拉法(dip-coating)在多孔NiO-YSZ阳极基底上制备GDC电解质薄膜,并利用场发射扫描电镜对薄膜的烧结行为进行了研究,薄膜在1300℃等温烧结后实现完全致密化。通过薄膜制备过程中制浆与成膜两个步骤的有机结合,探讨一条制备高性能GDC电解质薄膜的新途径。 |
| 公开日期 | 2013-10-10 |
| 版本 | 出版稿 |
| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/3119]  |
| 专题 | 过程工程研究所_研究所（批量导入） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 梁金,朱庆山. 氧化钆掺杂纳米氧化铈薄膜的制备与烧结性能研究[J]. 功能材料,2008(02):275-278. |
| APA | 梁金,&朱庆山.(2008).氧化钆掺杂纳米氧化铈薄膜的制备与烧结性能研究.功能材料(02),275-278. |
| MLA | 梁金,et al."氧化钆掺杂纳米氧化铈薄膜的制备与烧结性能研究".功能材料 .02(2008):275-278. |
入库方式： OAI收割
来源：过程工程研究所
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