化学镀Co-B合金(Ⅰ)
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王莉萍2; 吴玉程2; 李云2 ; 张勇1; 李广海1
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| 刊名 | 电镀与精饰
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| 出版日期 | 2004 |
| 卷号 | 26 |
| 关键词 | electroless plating Co-B alloy nanocrystalline deposition rate 化学镀 Co-B合金 纳米晶 沉积速率 |
| ISSN号 | 1001-3849 |
| 英文摘要 | 利用化学镀的方法,以硫酸钴为主盐,二甲基胺硼烷为还原剂,制备纳米晶Co-B合金,研究了在各种条件下沉积速率的变化.结果表明合适的工艺参数的选择,可得到较好的沉积速率,并可由此得到一个化学镀Co-B合金纳米晶的较优配方参数. |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn:8080/handle/334002/132871]  |
| 专题 | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 作者单位 | 1.中国科学院合肥物质科学研究院 2.合肥工业大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王莉萍,吴玉程,李云,等. 化学镀Co-B合金(Ⅰ)[J]. 电镀与精饰,2004,26. |
| APA | 王莉萍,吴玉程,李云,张勇,&李广海.(2004).化学镀Co-B合金(Ⅰ).电镀与精饰,26. |
| MLA | 王莉萍,et al."化学镀Co-B合金(Ⅰ)".电镀与精饰 26(2004). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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