A synchrotron-based kilowatt-level radiation source for EUV lithography
文献类型：期刊论文
| 作者 | Jiang, BC; Feng, C; Li, CL; Bai, ZH; Wan, WS; Xiang, D; Gu, Q; Wang, K ; Zhang, QL; Huang, DZ
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| 刊名 | SCIENTIFIC REPORTS
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| 出版日期 | 2022 |
| 卷号 | 12期号:1页码:3325 |
| ISSN号 | 2045-2322 |
| DOI | 10.1038/s41598-022-07323-z |
| 文献子类 | Article |
| 语种 | 英语 |
| WOS记录号 | WOS:000762444200080 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/300348]  |
| 专题 | 高能物理研究所_管理与技术支持 高能物理研究所_实验物理中心 |
| 作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Jiang, BC,Feng, C,Li, CL,et al. A synchrotron-based kilowatt-level radiation source for EUV lithography[J]. SCIENTIFIC REPORTS,2022,12(1):3325. |
| APA | Jiang, BC.,Feng, C.,Li, CL.,Bai, ZH.,Wan, WS.,...&Chen, SY.(2022).A synchrotron-based kilowatt-level radiation source for EUV lithography.SCIENTIFIC REPORTS,12(1),3325. |
| MLA | Jiang, BC,et al."A synchrotron-based kilowatt-level radiation source for EUV lithography".SCIENTIFIC REPORTS 12.1(2022):3325. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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