Interfacial Cladding Engineering Suppresses Atomic Thermal Migration to Fabricate Well-Defined Dual-Atom Electrocatalysts
文献类型：期刊论文
| 作者 | Leng K., Zhang J., Wang Y., Li D., Bai L., Shi J., Li X., Zheng L., Bai J., Qu Y. |
| 刊名 | Advanced Functional Materials
 |
| 出版日期 | 2022 |
| 卷号 | 32期号:41页码:2205637 |
| ISSN号 | 1616-301X |
| DOI | 10.1002/adfm.202205637 |
| 文献子类 | Article |
| 电子版国际标准刊号 | 1616-3028 |
| 语种 | 英语 |
| WOS记录号 | WOS:000819565400001 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/299132]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Leng K., Zhang J., Wang Y., Li D., Bai L., Shi J., Li X., Zheng L., Bai J., Qu Y.. Interfacial Cladding Engineering Suppresses Atomic Thermal Migration to Fabricate Well-Defined Dual-Atom Electrocatalysts[J]. Advanced Functional Materials,2022,32(41):2205637. |
| APA | Leng K., Zhang J., Wang Y., Li D., Bai L., Shi J., Li X., Zheng L., Bai J., Qu Y..(2022).Interfacial Cladding Engineering Suppresses Atomic Thermal Migration to Fabricate Well-Defined Dual-Atom Electrocatalysts.Advanced Functional Materials,32(41),2205637. |
| MLA | Leng K., Zhang J., Wang Y., Li D., Bai L., Shi J., Li X., Zheng L., Bai J., Qu Y.."Interfacial Cladding Engineering Suppresses Atomic Thermal Migration to Fabricate Well-Defined Dual-Atom Electrocatalysts".Advanced Functional Materials 32.41(2022):2205637. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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