Synchrotron X-Ray-Driven Nitrogen Reduction on an AgCu Thin Film
文献类型：期刊论文
| 作者 | Hui, J; Hu, QY; Zhuang, GM; Hu, WH; Yu, J; Liu, YZ; Li, TY; Fan, LL; Huang, JE; Wang, XL |
| 刊名 | SMALL
 |
| 出版日期 | 2022 |
| 卷号 | 18期号:26页码:2202720 |
| ISSN号 | 1613-6810 |
| DOI | 10.1002/smll.202202720 |
| 文献子类 | Article |
| 电子版国际标准刊号 | 1613-6829 |
| 语种 | 英语 |
| WOS记录号 | WOS:000802776200001 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/300370]  |
| 专题 | 高能物理研究所_东莞分部 |
| 作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Hui, J,Hu, QY,Zhuang, GM,et al. Synchrotron X-Ray-Driven Nitrogen Reduction on an AgCu Thin Film[J]. SMALL,2022,18(26):2202720. |
| APA | Hui, J.,Hu, QY.,Zhuang, GM.,Hu, WH.,Yu, J.,...&Wang, H.(2022).Synchrotron X-Ray-Driven Nitrogen Reduction on an AgCu Thin Film.SMALL,18(26),2202720. |
| MLA | Hui, J,et al."Synchrotron X-Ray-Driven Nitrogen Reduction on an AgCu Thin Film".SMALL 18.26(2022):2202720. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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