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电镀高饱和磁感应(Bs)CoNiFe软磁薄膜研究

文献类型:期刊论文

作者赵国刚1; 邓福铭1; 雷仁贵1; 王振廷1; 方光旦2
刊名功能材料
出版日期2005
卷号36.0期号:003页码:359
关键词电沉积 高Bs软磁膜 CoNiFe合金
ISSN号1001-9731
英文摘要研究了电沉积CoNiFe合金薄膜镀液中主盐离子浓度对膜层磁性能的影响。用振动样品磁强计(VSM)和四探针等方法测试分析了膜层的物理性能。结果表明膜层的物理性能与合金镀液中的主盐离子浓度密切相关,镀液中Ni^2+、Fe^2+、Co^2+浓度分别为0.2、0.012和0.063mol/L时,电沉积的CoNiFe舍金膜层的电磁性能较佳。其饱和磁化强度Bs达1.9T,矫顽力Hc为91.5A/m,电阻率为45μΩ·cm,在1MHz下磁导率μi为602。
语种英语
源URL[http://119.78.100.204/handle/2XEOYT63/27919]  
专题中国科学院计算技术研究所期刊论文_中文
作者单位1.中国矿业大学材料科学与工程系
2.中国科学院计算技术研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
赵国刚,邓福铭,雷仁贵,等. 电镀高饱和磁感应(Bs)CoNiFe软磁薄膜研究[J]. 功能材料,2005,36.0(003):359.
APA 赵国刚,邓福铭,雷仁贵,王振廷,&方光旦.(2005).电镀高饱和磁感应(Bs)CoNiFe软磁薄膜研究.功能材料,36.0(003),359.
MLA 赵国刚,et al."电镀高饱和磁感应(Bs)CoNiFe软磁薄膜研究".功能材料 36.0.003(2005):359.

入库方式: OAI收割

来源:计算技术研究所

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