电镀工艺条件与高饱和磁感应CoNiFe软磁薄膜的性能
文献类型：期刊论文
| 作者 | 邓福铭1; 雷仁贵1; 赵国刚1; 王振廷1; 方光旦2 |
| 刊名 | 有色金属
 |
| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 58.0期号:1.0页码:35 |
| 关键词 | 金属材料 高Bs软磁膜 电沉积 钴镍铁合金 |
| ISSN号 | 1001-0211 |
| 英文摘要 | 研究电沉积钴镍铁合金工艺条件如电流密度、pH和温度以及镀层厚度对膜层性能的影响。用振动样品磁强计测试膜层的矫顽力Hc、磁化强度Ms及磁滞回线，用高频电感法测试膜层的磁导率μi，用四探针法测试膜层的电阻率ρ。结果表明，膜层的电磁性能与镀覆工艺条件相关，在最佳镀覆工艺条件下（电流密度10mA／cm^2。pH=2.8．施镀温度25℃，时间10min）所得合金镀层光亮、致密，有较好电磁特性，Bs达1．9T，矫顽力Hc为1.15Oe。电阻率为45μΩ·cm。在1MHz下磁导率μi为602。 |
| 语种 | 英语 |
| 源URL | [http://119.78.100.204/handle/2XEOYT63/35869]  |
| 专题 | 中国科学院计算技术研究所期刊论文_中文 |
| 作者单位 | 1.中国矿业大学材料科学与工程系 2.中国科学院计算技术研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 邓福铭,雷仁贵,赵国刚,等. 电镀工艺条件与高饱和磁感应CoNiFe软磁薄膜的性能[J]. 有色金属,2006,58.0(1.0):35. |
| APA | 邓福铭,雷仁贵,赵国刚,王振廷,&方光旦.(2006).电镀工艺条件与高饱和磁感应CoNiFe软磁薄膜的性能.有色金属,58.0(1.0),35. |
| MLA | 邓福铭,et al."电镀工艺条件与高饱和磁感应CoNiFe软磁薄膜的性能".有色金属 58.0.1.0(2006):35. |
入库方式： OAI收割
来源：计算技术研究所
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