偏压对高功率脉冲磁控溅射法沉积MoN涂层结构及性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 康建2,3; 隋旭东1,2 ; 杨淑燕2,3; 周海斌1,2; 郝俊英1,2; 万勇2,3; 刘维民2
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| 刊名 | 摩擦学学报
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| 出版日期 | 2023 |
| 卷号 | 43期号:10页码:1118-1127 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.licp.cn/handle/362003/30475]  |
| 专题 | 兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室 |
| 通讯作者 | 隋旭东; 万勇 |
| 作者单位 | 1.青岛市资源化学与新材料研究中心, 山东 青岛 266000 2.中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室, 甘肃 兰州 730000 3.青岛理工大学 机械与汽车工程学院, 山东 青岛 266033 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 康建,隋旭东,杨淑燕,等. 偏压对高功率脉冲磁控溅射法沉积MoN涂层结构及性能的影响[J]. 摩擦学学报,2023,43(10):1118-1127. |
| APA | 康建.,隋旭东.,杨淑燕.,周海斌.,郝俊英.,...&刘维民.(2023).偏压对高功率脉冲磁控溅射法沉积MoN涂层结构及性能的影响.摩擦学学报,43(10),1118-1127. |
| MLA | 康建,et al."偏压对高功率脉冲磁控溅射法沉积MoN涂层结构及性能的影响".摩擦学学报 43.10(2023):1118-1127. |
入库方式： OAI收割
来源：兰州化学物理研究所
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