月基极紫外相机光子计数成像探测器Ge膜的空间质子辐照稳定性
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李云鹏; 陈波 ; 何玲平; 吕鹏
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| 刊名 | 半导体技术
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| 出版日期 | 2023-06-01 |
| 卷号 | 48期号:06页码:470-475 |
| 英文摘要 | 光子计数成像探测器是月基极紫外相机等空间成像载荷的核心成像器件。Ge膜作为探测器的电荷感应层，在空间质子辐照环境下的稳定性直接影响系统的成像质量。采用Monte-Carlo法仿真了500 nm Ge膜被10、50和100 keV高能质子辐照后，Ge膜内部的质子浓度分布与空位缺陷分布。仿真结果表明，50 keV质子在Ge膜内部产生的空位缺陷对膜层内部损伤最大。对100、230、350和500 nm厚度Ge膜分别进行50 keV质子辐照实验，经方阻仪测试显示，越厚的薄膜辐照后方阻变化越大，500 nm比100 nm Ge膜方阻增加量高约500 MΩ/。通过原子力显微镜(AFM)表征发现，500 nm Ge膜辐照后出现膜层凸起与分离，均方根表面粗糙度由1.63 nm增至约10 nm。研究结果表明，在满足方阻要求的前提下，通过对Ge膜厚度的合理设计，可以有效减小高能质子辐照带来的损伤。 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/68429]  |
| 专题 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 作者单位 | 1.江苏大学材料科学与工程学院 2.中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 3.中国刑事警察学院公安信息技术与情报学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李云鹏,陈波,何玲平,等. 月基极紫外相机光子计数成像探测器Ge膜的空间质子辐照稳定性[J]. 半导体技术,2023,48(06):470-475. |
| APA | 李云鹏,陈波,何玲平,&吕鹏.(2023).月基极紫外相机光子计数成像探测器Ge膜的空间质子辐照稳定性.半导体技术,48(06),470-475. |
| MLA | 李云鹏,et al."月基极紫外相机光子计数成像探测器Ge膜的空间质子辐照稳定性".半导体技术 48.06(2023):470-475. |
入库方式： OAI收割
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