远紫外电离层高光谱成像仪杂散光抑制研究
文献类型:期刊论文
作者 | 巨燕方; 顾国超![]() ![]() |
刊名 | 激光与光电子学进展
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出版日期 | 2023-05-25 |
卷号 | 60期号:10页码:463-469 |
英文摘要 | 电离层空间环境复杂,紫外波段辐射能量微弱,如何抑制远紫外高光谱成像仪杂散光是研究远紫外电离层高光谱载荷的重要环节。依据系统技术要求,给出单超环面光栅型高光谱成像仪杂散光抑制方法,首先分析杂散光的主要来源和传播路径,利用UG软件设计消杂光结构,使用LightTools软件仿真不同视场和不同光栅衍射级次下接收面的能量响应,评估杂散光抑制效果。结果表明:视场外杂散光能量和视场内光线能量量级相差10~(-5)~10~(-7),光栅非工作衍射级次光线能量和工作级次能量量级相差10~(-6)~10~(-8),中心波长处光谱杂光系数为0.9975%,所提方法满足空间远紫外高光谱遥感指标要求。 |
源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/68432] ![]() |
专题 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
作者单位 | 1.中国电子科技集团有限公司第二十二研究所 2.许健民气象卫星创新中心 3.中国科学院大学 4.中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 巨燕方,顾国超,李博,等. 远紫外电离层高光谱成像仪杂散光抑制研究[J]. 激光与光电子学进展,2023,60(10):463-469. |
APA | 巨燕方,顾国超,李博,林冠宇,马征征,&徐彬.(2023).远紫外电离层高光谱成像仪杂散光抑制研究.激光与光电子学进展,60(10),463-469. |
MLA | 巨燕方,et al."远紫外电离层高光谱成像仪杂散光抑制研究".激光与光电子学进展 60.10(2023):463-469. |
入库方式: OAI收割
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