离子束刻蚀改善光通信滤光膜均匀性的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张静; 刘海成; 付秀华; 王升耆; 杨飞 |
| 刊名 | 光子学报
 |
| 出版日期 | 2023 |
| 卷号 | 51期号:12页码:257-269 |
| 英文摘要 | 为了提高窄带滤光膜的有效镀膜面积，用电子束与离子辅助沉积技术制备了大尺寸光通信滤光膜。利用离子束刻蚀原理修正膜层均匀性，研究了离子源参数对Ta_2O_5和SiO_2两种材料膜层均匀性的影响；同时通过Macleod膜系设计软件对实验结果进行反演分析，改善了滤光膜通带波纹。最终制备的窄带滤光膜满足光通信技术要求，有效镀膜面积可达2 123 mm~2。 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/68538]  |
| 专题 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 作者单位 | 1.中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 2.光驰科技(上海)有限公司 3.长春理工大学中山研究院 4.长春理工大学光电工程学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张静,刘海成,付秀华,等. 离子束刻蚀改善光通信滤光膜均匀性的研究[J]. 光子学报,2023,51(12):257-269. |
| APA | 张静,刘海成,付秀华,王升耆,&杨飞.(2023).离子束刻蚀改善光通信滤光膜均匀性的研究.光子学报,51(12),257-269. |
| MLA | 张静,et al."离子束刻蚀改善光通信滤光膜均匀性的研究".光子学报 51.12(2023):257-269. |
入库方式： OAI收割
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