Nanopatterning of silicon via the near-field enhancement effect upon double-pulse femtosecond laser exposure
文献类型:期刊论文
作者 | Hong, Quan![]() |
刊名 | Applied Optics
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出版日期 | 2021 |
卷号 | 60期号:25页码:7790-7797 |
目次 | 否 |
语种 | 英语 |
版本 | 出版稿 |
源URL | [http://ir.idsse.ac.cn/handle/183446/11616] ![]() |
专题 | 深海工程技术部_深海资源开发研究室 |
作者单位 | Laser Micro/Nano Fabrication Laboratory, School of Mechanical Engineering, Beijing Institute of Technology |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Hong, Quan,Zhang, Jin,Wang, Sumei,et al. Nanopatterning of silicon via the near-field enhancement effect upon double-pulse femtosecond laser exposure[J]. Applied Optics,2021,60(25):7790-7797. |
APA | Hong, Quan.,Zhang, Jin.,Wang, Sumei.,Chu, Zhuyuan.,Wang, Mengmeng.,...&Guo, Qitong.(2021).Nanopatterning of silicon via the near-field enhancement effect upon double-pulse femtosecond laser exposure.Applied Optics,60(25),7790-7797. |
MLA | Hong, Quan,et al."Nanopatterning of silicon via the near-field enhancement effect upon double-pulse femtosecond laser exposure".Applied Optics 60.25(2021):7790-7797. |
入库方式: OAI收割
来源:深海科学与工程研究所
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