EUV-FEL light source for future lithography
文献类型：会议论文
| 作者 | N. Nakamura; H. Kawata; H. Sakai; K. Tsuchiya; M. Shimada; O. Tanaka; R. Kato; T. Tanikawa; T. Obina; T. Miyajima |
| 出版日期 | 2023 |
| 会议日期 | 2023 |
| 会议地点 | Italy |
| 会议录 | Proceedings of the 14th International Particle Accelerator Conference
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| 语种 | 英语 |
| 源URL | [https://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/303141]  |
| 专题 | 学术会议_国际参会_JaCoW高能所参会会议_IPAC |
| 作者单位 | High Energy Accelerator Research Organization |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | N. Nakamura, H. Kawata,H. Sakai,et al. EUV-FEL light source for future lithography[C]. 见:. Italy. 2023. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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