一种同时观测晶体形貌及测量晶体周围浓度场的装置
文献类型：专利
| 作者 | 戴国亮 ; 史建平
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| 发表日期 | 2024-10-18 |
| 专利号 | CN110579474B |
| 著作权人 | 中国科学院力学研究所 |
| 英文摘要 | 本发明实施例涉及一种同时观测晶体形貌及测量晶体周围浓度场的装置,所述装置包括：第一光源、辅助聚光镜、第二光源、反射镜、视场光阑、第一透镜、样品晶体、第二透镜、相板、刀口、第三透镜、分光棱镜、目镜、CCD；其中,第一光源、辅助聚光镜、反射镜、视场光阑、第一透镜、样品晶体、第二透镜、相板、刀口、第三透镜、分光棱镜、CCD以水平线为基准,以预设间距依次排开；第二光源在反射镜上方或者下方,目镜在分光棱镜斜上方或者斜下方；视场光阑、相板、分光棱镜在同一模块进行固定,刀口、第三透镜在同一模块进行固定。 |
| 分类号 | 发明授权 |
| 申请日期 | 2019-09-24 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/97332]  |
| 专题 | 力学研究所_国家微重力实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 戴国亮,史建平. 一种同时观测晶体形貌及测量晶体周围浓度场的装置. CN110579474B. 2024-10-18. |
入库方式： OAI收割
来源：力学研究所
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