基于化学修饰的纳米孔对整合素构象检测的方法
文献类型：专利
| 作者 | 梁丽媛; 张明焜 ; 王德强; 吕守芹; 吴吉; 谢婉谊; 李宁; 潘君; 李荣洁; 尹雅洁
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| 发表日期 | 2024-03-22 |
| 专利号 | CN114199971B |
| 著作权人 | 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 ; 中国科学院力学研究所 |
| 英文摘要 | 本发明公开了基于化学修饰的纳米孔对整合素构象检测的方法,通过共价修饰构建功能化的纳米孔电学检测通道,配置不同浓度不同离子种类条件的整合素缓冲液样品,在外加偏压条件下检测具有不同构象的整合素穿过纳米孔的电学信息,对电学信息进行分析以实现定量与构象区分检测。本方法制样简单、操作便捷、响应灵敏,通过不同条件的电学信息对比,能够更清晰的呈现整合素的单分子构象信息；还能提供整合素的体积、表面电荷属性、浓度等信息；同时也可以进行单分子穿孔速率调控和特异性检测。 |
| 分类号 | 发明授权 |
| 申请日期 | 2021-12-16 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/97425]  |
| 专题 | 力学研究所_国家微重力实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 梁丽媛,张明焜,王德强,等. 基于化学修饰的纳米孔对整合素构象检测的方法. CN114199971B. 2024-03-22. |
入库方式： OAI收割
来源：力学研究所
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