不同浓度氨溶液中铜管的腐蚀机理
文献类型:CNKI期刊论文
作者 | 孙虎元![]() |
发表日期 | 2008-08-15 |
出处 | 材料保护
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关键词 | 铜管 腐蚀机理 氨溶液 电化学阻抗谱 微观形貌 失重 |
英文摘要 | 为了解铜管的氨腐蚀机理,采用电化学阻抗谱、扫描电镜(SEM)和失重试验对铜管在有氧条件下于不同浓度氨溶液中的腐蚀行为进行了研究。结果表明,氨含量小于100 mg/L时,铜管腐蚀非常轻微,大于500 mg/L时腐蚀加剧,浓度越高腐蚀越严重。氨浓度较低和较高时铜管腐蚀机理和产物不同:氨浓度小于2 000 mg/L时,铜管表面生成黑色产物膜[CuO和Cu(OH)2],开路电位正移,阻抗增加,且该过程发生在前期6 d,之后不再有明显变化,这说明产物膜的生成对铜管具有保护作用,铜管氨腐蚀发展迅速,一周之内趋于稳定;氨浓度大于2 000 mg/L时铜管腐蚀为活化溶解,生成可溶的铜氨配离子,表面没有产物膜机理生成,开路电位和阻抗都没有明显变化。 |
DOI标识 | 10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2008.08.007 |
文献子类 | CNKI期刊论文 |
卷 | No.355期:08页:5+21-23 |
语种 | 中文; |
分类号 | TG172.9 |
ISSN号 | 1001-1560 |
源URL | [http://ir.qdio.ac.cn/handle/337002/192902] ![]() |
专题 | 中国科学院海洋研究所 |
作者单位 | 1.中国科学院海洋研究所 2.中国科学院研究生院 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙虎元,王顺,孙立娟. 不同浓度氨溶液中铜管的腐蚀机理. 2008. |
入库方式: OAI收割
来源:海洋研究所
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