镁合金微弧氧化过程中不同电压下获得膜层的性能研究
文献类型：CNKI期刊论文
| 作者 | 王燕华,王佳,张际标 |
| 发表日期 | 2005-10-25 |
| 出处 | 中国腐蚀与防护学报
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| 关键词 | 微弧氧化 镁合金 电压 性能 阻抗 |
| 英文摘要 | 采用扫描电镜、电化学阻抗方法,研究了镁合金AZ91D微弧氧化过程中不同电压下获得氧化膜的性能.结果表明,随着氧化电压的升高,可以获得三种不同性能的氧化膜:钝化膜、微火花氧化膜和弧光氧化膜.钝化膜很薄,厚度不足1μm,膜层的阻抗随着氧化电压升高略有增加,仍属于钝化膜性质;微火花放电后期得到的膜层较厚,厚度可达30μm,表面均匀、结构致密,具有最高的阻抗,可以达到8×107Ω;弧光放电阶段氧化膜最厚,但结构疏松、易碎,阻抗逐渐降低至1×107Ω.结果还指出,硅酸盐体系中微火花放电阶段后期形成的膜层具有最佳的性能;而且膜层的阻抗主要由氧化膜的有效厚度决定,与总厚度关系不大. |
| 文献子类 | CNKI期刊论文 |
| 期 | 05页:13-16 |
| 语种 | 中文; |
| 分类号 | TG174.4 |
| ISSN号 | 1005-4537 |
| 源URL | [http://ir.qdio.ac.cn/handle/337002/198898]  |
| 专题 | 中国科学院海洋研究所 |
| 作者单位 | 1.中国科学院海洋研究所青岛266071 2.青岛266003 3.金属腐蚀与防护国家重点实验室沈阳110016 4.青岛266071 5.中国科学院海洋研究所 6.中国海洋大学 7.中国科学院研究生院北京100039 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王燕华,王佳,张际标. 镁合金微弧氧化过程中不同电压下获得膜层的性能研究. 2005. |
入库方式： OAI收割
来源：海洋研究所
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