功率对脉冲直流磁控溅射制备Si-DLC薄膜组织与性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王少辉1,3,4; 柴利强3; 胡勇1,4; 王鹏3 ; 李勇2
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| 刊名 | 材料工程
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| 出版日期 | 2024-09 |
| 期号 | -页码:- |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.licp.cn/handle/362003/31495]  |
| 专题 | 兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室 |
| 通讯作者 | 柴利强; 胡勇 |
| 作者单位 | 1.兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室 2.浙江工贸职业技术学院国家激光制造与材料技术协同创新中心 3.中国科学院兰州化学物理研究所 4.兰州理工大学材料学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王少辉,柴利强,胡勇,等. 功率对脉冲直流磁控溅射制备Si-DLC薄膜组织与性能的影响[J]. 材料工程,2024(-):-. |
| APA | 王少辉,柴利强,胡勇,王鹏,&李勇.(2024).功率对脉冲直流磁控溅射制备Si-DLC薄膜组织与性能的影响.材料工程(-),-. |
| MLA | 王少辉,et al."功率对脉冲直流磁控溅射制备Si-DLC薄膜组织与性能的影响".材料工程 .-(2024):-. |
入库方式： OAI收割
来源：兰州化学物理研究所
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