一种抗等离子体刻蚀的高致密氧化钇涂层及其制备方法
文献类型：专利
| 作者 | 李红轩 ; 刘晓红; 李景锋; 吉利
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| 发表日期 | 2024 |
| 专利号 | 无 |
| 著作权人 | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
| 国家 | 中国 |
| 语种 | 中文 |
| 状态 | 申请中 |
| 源URL | [http://ir.licp.cn/handle/362003/31038]  |
| 专题 | 兰州化学物理研究所_先进润滑与防护材料研究发展中心 |
| 作者单位 | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李红轩,刘晓红,李景锋,等. 一种抗等离子体刻蚀的高致密氧化钇涂层及其制备方法. 无. 2024-01-01. |
入库方式： OAI收割
来源：兰州化学物理研究所
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