靶电流对磁控溅射制备TiB2薄膜结构及性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 冷啸1,2; 李红轩1 ; 吉利1; 张定军2
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| 刊名 | 中国表面工程
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| 出版日期 | 2024-10 |
| 卷号 | 37期号:5页码:147-157 |
| 关键词 | 磁控溅射 TiB2 靶电流 晶面结构 摩擦磨损 |
| DOI | 10. 11933 / j. issn. 1007-9289. 20231114002 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.licp.cn/handle/362003/31319]  |
| 专题 | 兰州化学物理研究所_先进润滑与防护材料研究发展中心 |
| 通讯作者 | 李红轩 |
| 作者单位 | 1.中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室 2.兰州理工大学材料科学与工程学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 冷啸,李红轩,吉利,等. 靶电流对磁控溅射制备TiB2薄膜结构及性能的影响[J]. 中国表面工程,2024,37(5):147-157. |
| APA | 冷啸,李红轩,吉利,&张定军.(2024).靶电流对磁控溅射制备TiB2薄膜结构及性能的影响.中国表面工程,37(5),147-157. |
| MLA | 冷啸,et al."靶电流对磁控溅射制备TiB2薄膜结构及性能的影响".中国表面工程 37.5(2024):147-157. |
入库方式： OAI收割
来源：兰州化学物理研究所
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