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硅表面自组装双层膜制备及其摩擦磨损性能研究

文献类型:期刊论文

作者张俊彦
刊名摩擦学学报
出版日期2007
卷号27期号:3页码:199-203
关键词自组装 双层膜 硬脂酸 摩擦磨损性能 self-assembled dual layer film stearic acid tribological behavior
ISSN号1004-0595
通讯作者张俊彦
中文摘要采用自组装方法在羟基化硅基底表面制备硬脂酸/环氧硅烷双层膜, 采用接触角测定仪、椭圆偏光仪、红外光谱仪、原子力显微镜、扫描电子显微镜和UMT22MT型摩擦磨损试验机评价薄膜结构及其摩擦磨损特性. 结果表明: 自组装双层膜对水的接触角为96°, 膜厚2.8 nm, 双层膜中烷基链呈现较好有序性, 在1μm ×1μm扫描面积内表面均方根粗糙度(RMS)为0.227 nm. 自组装硬脂酸/环氧硅烷双层膜能够有效降低基底的摩擦系数, 摩擦系数稳定在0.12左右, 同时表现出优异承载抗磨性能, 在载荷0.5 N、1 N和2 N下, 耐磨寿命分别为14200 s以上、7500 s和1800 s.
学科主题材料科学与物理化学
收录类别EI ; CSCD
资助信息中国科学院“百人计划”资助项目
语种中文
CSCD记录号CSCD:2821079
公开日期2013-11-01
源URL[http://210.77.64.217/handle/362003/4154]  
专题兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室
通讯作者张俊彦
推荐引用方式
GB/T 7714
张俊彦. 硅表面自组装双层膜制备及其摩擦磨损性能研究[J]. 摩擦学学报,2007,27(3):199-203.
APA 张俊彦.(2007).硅表面自组装双层膜制备及其摩擦磨损性能研究.摩擦学学报,27(3),199-203.
MLA 张俊彦."硅表面自组装双层膜制备及其摩擦磨损性能研究".摩擦学学报 27.3(2007):199-203.

入库方式: OAI收割

来源:兰州化学物理研究所

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