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射频溅射制备CsI(Tl)薄膜的发光及位置分辨特性

文献类型:期刊论文

作者秦秀波3; 张鹏2,3; 梁立欢1,3; 赵博震3; 于润升3; 王宝义3; 魏龙3
刊名第12届全国发光学学术会议暨发光学相关产业研讨会
出版日期2010
文献子类会议
英文摘要

目前在医学、生物以及工业测试中得到广泛应用的数字x射线成像技术主要通过闪烁材料 将x射线转变成可见光并通过电荷耦合器件(CCD)进行探测,然而传统上常用的闪烁晶体随 着厚度的增加导致可见光的各向同性展宽并进而降低了成像的空间分辨率。构建薄膜闪烁光纤 阵列是目前提高空间分辨的有效方法。本工作以广泛应用的CsI(TI)品体为研究对象,通过射 频溅射以玻璃光纤为模板,制备具有柱状微结构的闪烁薄膜材料,对其发光及成像特性进行表 征

语种中文
源URL[https://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/304493]  
专题高能物理研究所_多学科研究中心
作者单位1.广西大学
2.郑州大学
3.中国科学院高能物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
秦秀波,张鹏,梁立欢,等. 射频溅射制备CsI(Tl)薄膜的发光及位置分辨特性[J]. 第12届全国发光学学术会议暨发光学相关产业研讨会,2010.
APA 秦秀波.,张鹏.,梁立欢.,赵博震.,于润升.,...&魏龙.(2010).射频溅射制备CsI(Tl)薄膜的发光及位置分辨特性.第12届全国发光学学术会议暨发光学相关产业研讨会.
MLA 秦秀波,et al."射频溅射制备CsI(Tl)薄膜的发光及位置分辨特性".第12届全国发光学学术会议暨发光学相关产业研讨会 (2010).

入库方式: OAI收割

来源:高能物理研究所

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