Formation Mechanism of Passivation Layer under Air Exposure on TiZrV Non-Evaporable Getter Film
文献类型：期刊论文
| 作者 | Shi, QZ; Wang, SH; Shi, SY; Wang, PC; Ma, YS; Huang, T; Tan, B; Sun, F; Uang, TH; Wang, LX |
| 刊名 | JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C
 |
| 出版日期 | 2024 |
| 卷号 | 128期号:3页码:1034-1048 |
| ISSN号 | 1932-7447 |
| DOI | 10.1021/acs.jpcc.3c05363 |
| 文献子类 | Article |
| 电子版国际标准刊号 | 1932-7455 |
| WOS记录号 | WOS:001151476100001 |
| 源URL | [https://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/305850]  |
| 专题 | 高能物理研究所_东莞分部 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Shi, QZ,Wang, SH,Shi, SY,et al. Formation Mechanism of Passivation Layer under Air Exposure on TiZrV Non-Evaporable Getter Film[J]. JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C,2024,128(3):1034-1048. |
| APA | Shi, QZ.,Wang, SH.,Shi, SY.,Wang, PC.,Ma, YS.,...&Zhao, XG.(2024).Formation Mechanism of Passivation Layer under Air Exposure on TiZrV Non-Evaporable Getter Film.JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C,128(3),1034-1048. |
| MLA | Shi, QZ,et al."Formation Mechanism of Passivation Layer under Air Exposure on TiZrV Non-Evaporable Getter Film".JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C 128.3(2024):1034-1048. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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