表面活性剂调控制备钛层柱蒙脱石
文献类型：期刊论文
| 作者 | 闫树芳 ; 余江 ; 刘会洲 ; 孙体昌 |
| 刊名 | 过程工程学报
 |
| 出版日期 | 2007 |
| 期号 | 01页码:90-94 |
| 关键词 | TiO2 层柱蒙脱石 CTAB 调控 光催化剂 |
| 中文摘要 | 以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为表面活性剂,优化水热合成条件,调控制备了氧化钛层柱蒙脱石材料.考察了实验过程中反应条件及CTAB用量对钛基蒙脱石层间距的影响,比较了钛基蒙脱石经500℃热处理前后层间纳米TiO2晶粒大小及形态的变化.结果表明,CTAB对水合钛基柱撑剂在蒙脱石纳米层间域的“生长”过程起到了调控的作用.应用拉曼光谱和XRD等对所得材料进行了结构分析,讨论了表面活性剂调控钛基柱撑蒙脱石的可能机理,为制备集吸附与光催化降解于一体的新型高效水处理材料提供了新途径. |
| 公开日期 | 2013-10-17 |
| 版本 | 出版稿 |
| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/3619]  |
| 专题 | 过程工程研究所_研究所（批量导入） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 闫树芳,余江,刘会洲,等. 表面活性剂调控制备钛层柱蒙脱石[J]. 过程工程学报,2007(01):90-94. |
| APA | 闫树芳,余江,刘会洲,&孙体昌.(2007).表面活性剂调控制备钛层柱蒙脱石.过程工程学报(01),90-94. |
| MLA | 闫树芳,et al."表面活性剂调控制备钛层柱蒙脱石".过程工程学报 .01(2007):90-94. |
入库方式： OAI收割
来源：过程工程研究所
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