0.35μm投影光刻机逐场调焦调平控制技术研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 张津 |
| 学位类别 | 硕士 |
| 答辩日期 | 2000 |
| 授予单位 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 授予地点 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 导师 | 姚汉民 |
| 关键词 | 光学光刻 逐场调焦调平 解耦控制 耦合关系 控制算法 |
| 中文摘要 | 微电子技术的高速发展，特别是电路芯片集成度的急剧提高，使传统的光学光刻技术面临严峻挑战。关键在于光刻分辨力与焦深之间的矛盾参数选择。逐场调焦调平可以有效地补偿调焦误差源（硅片翘曲、衬底地形及硅片平整度偏差等）的影响，平均整个视场的焦面，提高调焦精度和裕量。本文深入地对逐场调焦调平控制技术作了研究，在基于硅片CHIP内多点高度视频测量的基础上，导出了调平系统数学模型，提出了调平解耦控制算法。建立了执行光学测量、计算机视频图像采集、调焦调平运动控制等功能的实验装置。实验中，有效地验证了系统的原理、功能及调平耦合控制算法，取得了满意的效果。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-11-19 |
| 页码 | 69 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/53]  |
| 专题 | 光电技术研究所_光电技术研究所博硕士论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张津. 0.35μm投影光刻机逐场调焦调平控制技术研究[D]. 中国科学院光电技术研究所. 中国科学院光电技术研究所. 2000. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。