用光瞳滤波技术提高投影成像系统光刻分辩率研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 康西巧 |
| 学位类别 | 硕士 |
| 答辩日期 | 2001 |
| 授予单位 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 授予地点 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 导师 | 陈旭南 |
| 关键词 | 光刻 分辩率 焦深 光瞳滤波 模拟退火算法 |
| 中文摘要 | 随着以集成电路为核心的微电子技术发展越来越迅速，对微细加工技术，特别是光学光刻技术，不断提出更高的要求，光瞳滤波作为一种有效的波前工程技术，对进一步提高光刻分辨率，扩展光学光刻极限具有重要意义和良好的应用前景。本文以部分相干成像理论为基础，对光瞳滤波技术提高光刻分辩率的物理机理进行了深入的研究，提出利用模拟退火自满求解滤波器的思想，建立数学模型并利用Visual C++和Matlab语言编制软件，根据不同的掩模图形及不同的曝光条件求解相应的最优滤波器。通过模拟分析，得到光瞳滤波技术提高光刻分辩率的光刻工艺条件进行了研究，并应用一种抗蚀剂作为相移器的新方法来制作相移滤波器。实验结果表明，相移滤波能显著提高系统的光学分辩率，在投影光刻系统曝光波长为g线（436nm），成像物镜数值孔径为0.5的情况下，可将实验系统的光刻分辩率提高到0.35μm。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-11-19 |
| 页码 | 52 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/68]  |
| 专题 | 光电技术研究所_光电技术研究所博硕士论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 康西巧. 用光瞳滤波技术提高投影成像系统光刻分辩率研究[D]. 中国科学院光电技术研究所. 中国科学院光电技术研究所. 2001. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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