用于MEMS加工的双面深度光刻机底面对准系统及其控制系统研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 马平 |
| 学位类别 | 硕士 |
| 答辩日期 | 2003 |
| 授予单位 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 授予地点 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 导师 | 唐小萍 |
| 关键词 | 双面光刻 底面对准 图像处理 步进电机 电磁阀 |
| 中文摘要 | 目前，双面对准光刻机在诸如MEMS等特种器件的制造方面应用越来越广泛，这也极大地促进了双面光刻机在对准精度、使用性能及技术应用等方面向更高层次发展。本文在比较双面光刻机几种常用对准方式的基础上，根据系统指标要求提出采用底面对准原理实现对准，并对底面对准系统原理、结构、过程、图像处理及精度分析等进行了探讨；同时，作为整机系统的重要组成部分，控制系统的设计也是本文讨论的另一重点内容，包括控制系统功能及组成、计算机通信、步进电机及电磁阀控制等软、硬件设计。设计结果实验表明，对准系统完全能实现对准标记图像的实时采集、处理、显示及满足高精度图像定位的要求；控制系统在实现控制功能的基础上，控制灵活、方便、可靠。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-11-19 |
| 页码 | 63 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/84]  |
| 专题 | 光电技术研究所_光电技术研究所博硕士论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 马平. 用于MEMS加工的双面深度光刻机底面对准系统及其控制系统研究[D]. 中国科学院光电技术研究所. 中国科学院光电技术研究所. 2003. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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