中红外光学薄膜机械性能研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 张殷华 |
| 学位类别 | 硕士 |
| 答辩日期 | 2006-06-15 |
| 授予单位 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 授予地点 | 光电技术研究所 |
| 导师 | 黄伟 |
| 关键词 | 中红外 光学薄膜 应力 附着力 机械性能 |
| 学位专业 | 光学 |
| 中文摘要 | 在现代科学技术中，中红外光学薄膜应用越来越广泛，但其机械性能却不令人满意，主要原因是膜层存在较大的应力、膜层间的应力不匹配和附着力不好。影响薄膜应力和附着力的因素有薄膜的沉积方式、沉积的工艺条件以及沉积后的处理等等。 本文以改善中红外光学薄膜应力和附着力为目的，初步开展了中红外光学薄膜机械性能研究。主要内容包括： (1).讨论了薄膜应力的形成原因及薄膜应力的类型，对常用的几种中红外薄膜的热应力进行了分析计算，探讨了薄膜内应力形成的一些机理，对单层和多层膜残余应力的计算进行了讨论，同时总结了薄膜应力主要的测量方法。 (2).讨论了光学薄膜附着类型、附着机理、附着力测量方法、影响薄膜附着力的工艺因素以及改善附着力的方法。 (3).研究了在不同工艺条件下，各种中红外薄膜材料的单层膜的光学特性。利用基片和膜层的透过率，采用包络线法计算得到了各种薄膜的折射率及其厚度。 (4).研究了在不同工艺条件下，沉积在石英、Si和K9基片上的各种中红外薄膜材料的单层膜和多层膜的机械特性，主要研究了其应力和附着力特性。 (5).通过测量镀膜前后基片面形计算薄膜应力的方法，利用Vecco干涉仪，首次在国内测量了YbF3、BaF2、PbF2、YF3、Ybc、HfF4、ZrF4、ZnS和ZnSe等红外薄膜的应力。氟化物薄膜为较大的张应力，从几十Mpa到几百MPa，但是BaF2例外，BaF2薄膜的应力比较小，只有几MPa。ZnS薄膜为压应力，大约在200MPa左右，ZnSe薄膜的应力比较复杂，有时为张应力，有时为压应力。 (6).研究了ZnS/YbF3和ZnSe/YbF3应力的匹配，利用单层膜的应力结果来计算多层膜的应力时，对于ZnS/YbF3多层膜，计算值和测量值在30％的范围内相吻合，但是ZnSe/YbF3多层膜则不吻合。 (7).采用直接拉离法，利用附着力测量仪，首次在国内定量测量了薄膜的附着力。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-11-19 |
| 页码 | 80 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/173]  |
| 专题 | 光电技术研究所_光电技术研究所博硕士论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张殷华. 中红外光学薄膜机械性能研究[D]. 光电技术研究所. 中国科学院光电技术研究所. 2006. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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