低损耗中红外薄膜的研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 林大伟 |
| 学位类别 | 硕士 |
| 答辩日期 | 2008-06-11 |
| 授予单位 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 授予地点 | 光电技术研究所 |
| 导师 | 熊胜明 |
| 关键词 | 损耗 中红外 高反膜 有限元 |
| 其他题名 | Research On Extreme Low Loss Mid-infrared Reflecting Film |
| 学位专业 | 光学 |
| 中文摘要 | 在高功率激光系统中，光学元件特别是光学薄膜是激光损伤最薄弱的环节，是限制激光系统向高功率发展的重要因素，是激光系统设计的重要依据和重大限制，因此，研究薄膜的损耗，不断减少薄膜的损耗，提高薄膜的损伤阈值，对研制和发展高能激光系统有重要意义。 本文首先探讨了薄膜损耗的类型及理论计算，总结了制备中红外薄膜常用材料的性质。重点研究了基板温度、蒸发速率对中红外强激光薄膜材料性质的影响，考察了薄膜的成份、晶体结构，对薄膜的制备工艺具有一定的指导意义；研究了蒸气入射角度对薄膜折射率、堆积密度的影响，发现在满足膜层均匀性的前提下应尽量采用较小的蒸气入射角；采用ZnSe、YbF3为镀膜材料制备了反射率稳定在99.9%以上的中红外高反射膜，薄膜的损耗小于之前采用ZnS、YbF3为镀膜材料制备的高反射膜；采用有限元方法仿真了薄膜的吸收引起的温升情况，与实际测量吻合较好。 最后，对本文的工作作了总结，指出了研究中存在的问题和不足，对以后的进一步研究工作提出了建议。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-11-19 |
| 页码 | 77 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/237]  |
| 专题 | 光电技术研究所_光电技术研究所博硕士论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 林大伟. 低损耗中红外薄膜的研究[D]. 光电技术研究所. 中国科学院光电技术研究所. 2008. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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