基于USB2.0和CPLD的双面光刻机底面对准与控制系统
文献类型：学位论文
| 作者 | 邓玖根 |
| 学位类别 | 硕士 |
| 答辩日期 | 2008-06-06 |
| 授予单位 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 授予地点 | 光电技术研究所 |
| 导师 | 张正荣 |
| 关键词 | USB CPLD 双面光刻机 底面对准 控制 |
| 其他题名 | A new Bottom Side Alignment and Control System of Double-sided Lithography-Equipment based on USB2.0 and CPLD |
| 学位专业 | 物理电子学 |
| 中文摘要 | 对准精度是影响套刻精度的关键因素，对准系统作为光刻机非常关键的一部分，它与镜头、工件台并称为光刻机三大核心，对光刻机的整机性能起着至关重要的作用。 目前的对准与控制系统不仅成本高，而且接口多，系统复杂，可靠稳定性差。本论文提出了基于USB2.0与CPLD的底面对准与控制方案，并对新系统的软硬件设计进行了深入研究。 本文在充分了解双面光刻机底面对准与控制系统的结构与原理的基础上，完成了基于USB2.0与CPLD的图像采集与控制系统的电路设计，并对各个关键子系统的硬件设计和PCB设计相关注意事项做了详细阐述。我们还对新系统的软件设计做了详尽分析与阐述，着重介绍了CPLD代码、USB驱动、USB固件以及上位机应用程序的设计，并给出了关键代码。 论文最后给出了新系统的调试情况和误差分析，并对新系统的不足和今后的努力方向做了分析与展望。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-11-19 |
| 页码 | 94 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/317]  |
| 专题 | 光电技术研究所_光电技术研究所博硕士论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 邓玖根. 基于USB2.0和CPLD的双面光刻机底面对准与控制系统[D]. 光电技术研究所. 中国科学院光电技术研究所. 2008. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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