光栅移相点衍射干涉仪及其测量误差
文献类型：学位论文
| 作者 | 何国良 |
| 学位类别 | 硕士 |
| 答辩日期 | 2009-06-05 |
| 授予单位 | 中国科学院光电技术研究所 |
| 授予地点 | 光电技术研究所 |
| 导师 | 邢廷文 |
| 关键词 | 干涉测量 移相 点衍射干涉仪 面形检测 测量误差 |
| 其他题名 | Grating Phase-shifting Point Diffraction Interferometer and Its Measurement Errors |
| 学位专业 | 光学工程 |
| 中文摘要 | 近年来，随着光刻技术的不断发展，传统的光学加工检测技术面临着越来越多的挑战。移相点衍射干涉仪作为一种新型的高精度干涉测量仪器，在接近衍射极限的光刻系统的面形检测中有很重要意义。但目前这种仪器在国内的发展并不是很成熟，为了使这种新型仪器尽快应用于实际测量，本文在以下几个方面进行了研究，主要包括： 首先，在了解了传统点衍射干涉仪的特点之后，重点研究了一种结构简单、抗环境扰动能力强的基于光栅移相的点衍射干涉仪，对这种干涉仪的基本结构和测量原理进行了阐述，并详细介绍了其对光学面形的测量方法和过程，分析了干涉仪的主要结构参数以及相互之间的依赖关系。 其次，为了提高移相点衍射干涉仪的测量精度，采用理论计算和软件模拟的方法，重点分析了各种测量误差的大小和存在形式，其中包括系统结构引起的系统误差，光源和探测器引起的测量误差，光栅引起的移相误差，以及振动、空气扰动等环境因素引起的测量误差等。同时，提出了相应的抑制或减小测量误差的方法，这些方法对提高移相点衍射干涉仪的测量精度有重要意义。 最后，结合点衍射干涉仪的具体结构，为实现特定的测量精度，对误差控制的各个方面提出了总体性的要求，指出了误差控制的重点和方向，并对以后的工作进行了展望。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-11-19 |
| 页码 | 61 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/359]  |
| 专题 | 光电技术研究所_光电技术研究所博硕士论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 何国良. 光栅移相点衍射干涉仪及其测量误差[D]. 光电技术研究所. 中国科学院光电技术研究所. 2009. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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