一种锰掺杂的负温度系数单晶硅热敏电阻
文献类型：专利
| 作者 | 陈朝阳
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| 发表日期 | 2007-10-26 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | ZL200310116749.4 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院新疆理化技术研究所 |
| 中文摘要 | 本发明涉及一种锰掺杂的负温度系数单晶硅热敏电阻，该热敏电阻通过金属锰真空高温扩散或硝酸锰涂层高温扩散将锰掺入单晶硅中，锰原子形成深施主能级，硅单晶成为高度补偿的半导体材料。温度升高，深能级俘获的载流子跃迁至导带，引起材料电阻率发生变化，从而呈现热敏特性，改变扩散温度和时间，即可实现其材料常数Ｂ值和２５℃标称电阻的改变。 |
| 公开日期 | 2013-11-27 |
| 申请日期 | 2003-11-20 |
| 专利申请号 | 200310116749.4 |
| 源URL | [http://ir.xjipc.cas.cn/handle/365002/3151]  |
| 专题 | 新疆理化技术研究所_材料物理与化学研究室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈朝阳. 一种锰掺杂的负温度系数单晶硅热敏电阻. ZL200310116749.4. 2007-10-26. |
入库方式： OAI收割
来源：新疆理化技术研究所
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