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a-C∶H膜的高真空磨损失效机制研究——应力的影响

文献类型:期刊论文

作者吴艳霞; 李红轩; 吉利; 冶银平; 孙晓军; 陈建敏; 周惠娣
刊名摩擦学学报
出版日期2013
卷号33期号:5页码:501-506
关键词含氢无定形碳(a-C∶H)膜 高真空 摩损失效 应力 morphous hydrogenated carbon (a-C:H) film high vacuum worn failure stress
ISSN号1004-0595
通讯作者陈建敏 ; 李红轩
中文摘要

采用中频非平衡磁控溅射法沉积了含氢无定形碳(a-C:H)薄膜,利用球-盘摩擦试验机考察了不同载荷下薄膜在高真空中(5.0×10-3Pa)的摩擦磨损行为,通过对磨损表面的分析以及相关的验证实验,探讨了应力(接触应力、薄膜内应力)对薄膜在高真空中摩擦磨损行为的影响.结果表明:在高真空中,随着载荷的增加,薄膜的摩擦系数逐渐降低,而耐磨寿命却急剧缩短;在高真空高接触应力下,无论是摩擦还是静压,薄膜表面均出现了明显的应力释放花样.因此可以认为,薄膜在高真空中的磨损失效与其在高接触应力下的内应力释放有密切关系.

学科主题材料科学与物理化学
收录类别EI&CSCD
资助信息国家自然科学基金项目(51275509;51175491);国家973项目(2013CB632300);中国科学院财政资助
语种中文
公开日期2013-12-05
源URL[http://210.77.64.217/handle/362003/4470]  
专题兰州化学物理研究所_先进润滑与防护材料研究发展中心
兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
吴艳霞,李红轩,吉利,等. a-C∶H膜的高真空磨损失效机制研究——应力的影响[J]. 摩擦学学报,2013,33(5):501-506.
APA 吴艳霞.,李红轩.,吉利.,冶银平.,孙晓军.,...&周惠娣.(2013).a-C∶H膜的高真空磨损失效机制研究——应力的影响.摩擦学学报,33(5),501-506.
MLA 吴艳霞,et al."a-C∶H膜的高真空磨损失效机制研究——应力的影响".摩擦学学报 33.5(2013):501-506.

入库方式: OAI收割

来源:兰州化学物理研究所

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