Ｎ2 流量对中频非平衡磁控溅射ＴｉＡｌＮ薄膜结构及性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 吴劲峰; 何乃如 ; 邱孟柯; 吉利; 李红轩; 黄小鹏
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| 刊名 | 功能材料
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| 出版日期 | 2013 |
| 卷号 | 44期号:1页码:32-35 |
| 关键词 | 磁控溅射 TiAlN 薄膜 N2 流量 微观结构 硬度 magnetron sputtering TiAlN films nitrogen flow microstructure hardness |
| ISSN号 | 1001-9731 |
| 通讯作者 | 吴劲峰 |
| 中文摘要 | 采用非平衡磁控溅射技术在ＡＩＳＩ２０２不锈钢片和Ｐ（１１１）单晶硅基底上制备了ＴｉＡｌＮ薄膜，并利用场发射扫描电镜（ＦＥＳＥＭ）、三维轮廓仪、Ｘ射线衍射仪（ＸＲＤ）、Ｘ射线电子能谱仪（ＸＰＳ）、纳米压痕仪对薄膜的结构和性能进行了考查。结果表明，随着Ｎ２流量的升高，ＴｉＡｌＮ薄膜的沉积速率降低，Ａｌ／Ｔｉ比率先升高后迅速降低；薄膜主要由ＴｉＮ 立方晶构成，且随Ｎ２流量的升高晶粒尺寸减小，柱状晶结构变疏松。在氮气流量为２０ｍＬ／ｍｉｎ时，薄膜具有最高的硬度及结合力。 |
| 学科主题 | 材料科学与物理化学 |
| 收录类别 | EI&CSCD |
| 资助信息 | 国家自然科学基金资助项目(51065001) |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-12-10 |
| 源URL | [http://210.77.64.217/handle/362003/4596]  |
| 专题 | 兰州化学物理研究所_先进润滑与防护材料研究发展中心 兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴劲峰,何乃如,邱孟柯,等. Ｎ2 流量对中频非平衡磁控溅射ＴｉＡｌＮ薄膜结构及性能的影响[J]. 功能材料,2013,44(1):32-35. |
| APA | 吴劲峰,何乃如,邱孟柯,吉利,李红轩,&黄小鹏.(2013).Ｎ2 流量对中频非平衡磁控溅射ＴｉＡｌＮ薄膜结构及性能的影响.功能材料,44(1),32-35. |
| MLA | 吴劲峰,et al."Ｎ2 流量对中频非平衡磁控溅射ＴｉＡｌＮ薄膜结构及性能的影响".功能材料 44.1(2013):32-35. |
入库方式： OAI收割
来源：兰州化学物理研究所
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