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直流磁控溅射制备TiAlCN薄膜及其性能研究

文献类型:期刊论文

作者郑建云; 郝俊英; 刘小强; 龚秋雨; 刘维民
刊名摩擦学学报
出版日期2013
卷号33期号:1页码:85-90
关键词直流磁控溅射 TiAlCN薄膜 微观结构 硬度 摩擦行为 direct current magnetron sputtering TiAlCN films microstructure hardness tribological behaviours
ISSN号1004-0595
通讯作者郝俊英
中文摘要

采用直流磁控溅射技术制备TiAlCN薄膜,研究了直流电流对TiAlCN薄膜的薄膜成分、微观结构、机械性能和摩擦性能的影响.研究表明:随着直流电流的增加,薄膜中C元素含量逐渐降低;薄膜中无定形碳含量减少,而(Ti,Al)CxN1-x晶粒增加.另外,在低于3.0 A直流电流范围内薄膜的表面粗糙度无明显变化,而当直流电流高于3.0 A时,薄膜的表面粗糙度随直流电流的增加而显著上升.随着直流电流的增大,薄膜的硬度先增加后降低,而薄膜的摩擦系数则先降低后升高.在直流电流为3.5 A时,薄膜的硬度和摩擦系数分别约为22.2 GPa和0.16.

收录类别EI&CSCD
资助信息国家自然科学基金(50905177)
语种中文
公开日期2013-12-18
源URL[http://210.77.64.217/handle/362003/4768]  
专题兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
郑建云,郝俊英,刘小强,等. 直流磁控溅射制备TiAlCN薄膜及其性能研究[J]. 摩擦学学报,2013,33(1):85-90.
APA 郑建云,郝俊英,刘小强,龚秋雨,&刘维民.(2013).直流磁控溅射制备TiAlCN薄膜及其性能研究.摩擦学学报,33(1),85-90.
MLA 郑建云,et al."直流磁控溅射制备TiAlCN薄膜及其性能研究".摩擦学学报 33.1(2013):85-90.

入库方式: OAI收割

来源:兰州化学物理研究所

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