一种用于钕铁硼工件表面防护的磁控溅射沉积铝膜的方法
文献类型:专利
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作者 | 宋振纶 ; 孙科沸 ; 李金龙 ; 冒守栋 |
发表日期 | 2010-06-09 |
专利国别 | 中国 |
专利类型 | 发明 |
权利人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
中文摘要 | 本发明涉及一种用于钕铁硼工件表面防护的磁控溅射沉积铝膜的方法,其特征在于:包括如下步骤:(1)在真空室内安装纯度大于98%的铝靶,使其与水平面的角度在45°~90°之间;(2)对钕铁硼工件进行除油、除锈处理;(3)把钕铁硼工件放置在工件托架上;(4)抽真空,使真空室内的真空度不大于1×10-3Pa;(5)对钕铁硼工件进行溅射沉积铝膜,采用惰性气体为工作气体,工作气压为0.1~10Pa,单位靶面积的溅射功率为1~6w/cm2,采用至少一个铝靶对钕铁硼工件进行溅射,溅射时间为1~5h;(6)采用手动机械手翻转钕铁硼工件;(7)对钕铁硼工件进行溅射沉积,采用惰性气体为工作气体,工作气压为0.1~10Pa,单位靶面积的溅射功率为1~6w/cm2,采用至少一个溅射靶对钕铁硼工件进行溅射,溅射时间为1~5h。 |
公开日期 | 2013-12-16 |
专利申请号 | CN200810121903.X |
专利代理 | 袁忠卫 |
源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/10375] ![]() |
专题 | 宁波材料技术与工程研究所_专利成果 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 宋振纶,孙科沸,李金龙,等. 一种用于钕铁硼工件表面防护的磁控溅射沉积铝膜的方法, 一种用于钕铁硼工件表面防护的磁控溅射沉积铝膜的方法. 2010-06-09. |
入库方式: OAI收割
来源:宁波材料技术与工程研究所
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